发明名称 |
图案形成装置、标记检测装置、曝光装置、图案形成方法、曝光方法及组件制造方法 |
摘要 |
在晶片载台(WST)在Y轴方向直线移动的期间,通过多点AF系统(90a、90b)检测在X轴方向以规定间隔所设定的多个检测点中晶片(W)表面的面位置信息,且通过沿X轴方向排列成一列的多个对准系统(AL1、AL2<sub>1</sub>~AL2<sub>4</sub>)分别检测晶片(W)上彼此不同位置的标记。即,由于晶片载台(晶片)仅直线通过多点AF系统的多个检测点的排列与多个对准系统,就结束多个检测点中晶片表面的面位置信息的检测与晶片上彼此不同位置的标记的检测,因此与毫无关连地进行标记的检测动作与面位置信息(聚焦信息)的检测动作的情形相比较,能提升处理能力。 |
申请公布号 |
CN101385122A |
申请公布日期 |
2009.03.11 |
申请号 |
CN200780005155.2 |
申请日期 |
2007.02.21 |
申请人 |
株式会社尼康 |
发明人 |
柴崎祐一 |
分类号 |
H01L21/027(2006.01)I;H01L21/677(2006.01)I;G03F9/02(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/027(2006.01)I |
代理机构 |
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 |
代理人 |
吴丽丽 |
主权项 |
1. 一种在物体上形成图案的图案形成装置,其特征在于具备:移动体,保持在彼此不同的多个位置上并分别形成有标记的物体,在包含第1轴及与其交叉的第2轴的规定平面内移动;多个标记检测系统,在平行于上述第2轴的方向分离配置检测区域,分别检测上述物体上的不同标记;以及面位置检测装置,对上述物体照射检测光束并接收该检测光束的反射光,检测在平行于上述第2轴的方向上位置不同的多个检测点的上述物体的面位置信息。 |
地址 |
日本东京 |