发明名称 气体流量控制装置校验的方法
摘要 本发明公开了一种气体流量控制装置校验的方法,用于在线校验气体流量控制装置MFC的误差,所述气体流量控制安装于向反应室供应工艺气体的气路上,包括以下步骤:首先将反应室抽到真空状态;然后设置被校验MFC流量为Qv,向反应室通入工艺气体,同时向反应室通入固定流量Qs的参考气体;再通过测定反应室压力的变化,根据理想气态方程公式PV=nRT推导出进入反应室的气体的总的流量Q;之后根据公式Qp=Q-Qs求得进入反应室的工艺气体的流量Qp,并将Qp与Qv进行比较,以校验MFC的流量误差。校验准确、精度高、校验时间短,不受环境温度和腔室容积影响,尤其适用于小流量MFC的校验。
申请公布号 CN100468016C 申请公布日期 2009.03.11
申请号 CN200610114468.9 申请日期 2006.11.10
申请人 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 发明人 南建辉;宋巧丽
分类号 G01F25/00(2006.01)I;G05D7/06(2006.01)I;H01L21/00(2006.01)I;G12B13/00(2006.01)I 主分类号 G01F25/00(2006.01)I
代理机构 北京凯特来知识产权代理有限公司 代理人 赵镇勇
主权项 1、一种气体流量控制装置校验的方法,用于在线校验气体流量控制装置MFC的误差,所述气体流量控制器安装于向反应室供应工艺气体的气路上,其特征在于,包括以下步骤:A、将反应室抽到真空状态;B、设置MFC的气体流量Qv,并通过MFC向反应室通入工艺气体,同时向反应室通入固定流量Qs的参考气体;C、通过测定反应室压力的变化,根据理想气态方程公式:PV=nRT推导出进入反应室的气体的总的流量Q,其中,P为所述进入反应室的气体压强;V为所述进入反应室的气体体积;n为所述进入反应室的气体物质的量;T为所述进入反应室的气体的绝对温度;R为所述进入反应室的气体常量;D、根据公式Qp=Q-Qs求得进入反应室的工艺气体的流量Qp,并将Qp与所设置的MFC气体流量Qv进行比较,以校验MFC的测量误差。
地址 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼