发明名称 |
浮栅存储器单元的半导体存储器阵列 |
摘要 |
一种浮栅存储器单元阵列,其中沟渠形成于半导体基板的表面内。源极及漏极区域分别于沟渠下方,沿着基板的表面形成,在源极区域及漏极区域之间具有非线性沟道区域。浮栅具有位于沟渠内的下部,以及位在基板上方的上部,且具有与基板表面平行延伸的侧向突出物。侧向突出物是通过将一空穴蚀刻入牺牲层之暴露端内,并充填多晶硅所形成。控制栅是围绕著侧向突出物形成并与其绝缘。沟渠侧壁与基板表面以一锐角相接合,形成一指向浮栅且在与侧向突出物相对之方向上的尖锐边缘。 |
申请公布号 |
CN100468746C |
申请公布日期 |
2009.03.11 |
申请号 |
CN200410039986.X |
申请日期 |
2004.03.22 |
申请人 |
硅存储技术公司 |
发明人 |
陈柏密;李达纳 |
分类号 |
H01L27/115(2006.01)I;H01L29/788(2006.01)I;H01L21/8247(2006.01)I |
主分类号 |
H01L27/115(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 |
代理人 |
张雪梅;梁 永 |
主权项 |
1. 一种电气地可编程以及可擦除的存储器装置,包含:一半导体材料基板,其具有第一导电类型及一表面;一沟槽,其形成于该基板表面中;隔开的第一及第二区域,形成于基板内并具有第二导电类型,在该隔开的第一及第二区域之间,具有形成于基板内的沟道区域,其中该第一区域形成在该沟槽下方,该沟道区域包括沿着沟槽侧壁延伸的第一部分,以及沿着基板表面延伸的第二部分;导电性浮栅,其具有上部及下部,其中该下部邻近且与沟道区域第一部分绝缘地位于沟槽内,以及其中该上部在基板表面上方延伸并包括一浮栅侧向突出物,该浮栅侧向突出物在一与基板表面平行的方向上延伸;以及导电性控制栅,其设置在该沟道区域第二部分上且与该沟道区域第二部分绝缘,且设置为侧向地邻近该浮栅侧向突出物并与其绝缘,其中该控制栅包括形成于该控制栅内的控制栅凹穴,以及其中该浮栅侧向突出物延伸入该控制栅凹穴中,且该控制栅凹穴的形状与该浮栅侧向突出物的形状相配合。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |