发明名称 浮栅存储器单元的半导体存储器阵列
摘要 一种浮栅存储器单元阵列,其中沟渠形成于半导体基板的表面内。源极及漏极区域分别于沟渠下方,沿着基板的表面形成,在源极区域及漏极区域之间具有非线性沟道区域。浮栅具有位于沟渠内的下部,以及位在基板上方的上部,且具有与基板表面平行延伸的侧向突出物。侧向突出物是通过将一空穴蚀刻入牺牲层之暴露端内,并充填多晶硅所形成。控制栅是围绕著侧向突出物形成并与其绝缘。沟渠侧壁与基板表面以一锐角相接合,形成一指向浮栅且在与侧向突出物相对之方向上的尖锐边缘。
申请公布号 CN100468746C 申请公布日期 2009.03.11
申请号 CN200410039986.X 申请日期 2004.03.22
申请人 硅存储技术公司 发明人 陈柏密;李达纳
分类号 H01L27/115(2006.01)I;H01L29/788(2006.01)I;H01L21/8247(2006.01)I 主分类号 H01L27/115(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 代理人 张雪梅;梁 永
主权项 1. 一种电气地可编程以及可擦除的存储器装置,包含:一半导体材料基板,其具有第一导电类型及一表面;一沟槽,其形成于该基板表面中;隔开的第一及第二区域,形成于基板内并具有第二导电类型,在该隔开的第一及第二区域之间,具有形成于基板内的沟道区域,其中该第一区域形成在该沟槽下方,该沟道区域包括沿着沟槽侧壁延伸的第一部分,以及沿着基板表面延伸的第二部分;导电性浮栅,其具有上部及下部,其中该下部邻近且与沟道区域第一部分绝缘地位于沟槽内,以及其中该上部在基板表面上方延伸并包括一浮栅侧向突出物,该浮栅侧向突出物在一与基板表面平行的方向上延伸;以及导电性控制栅,其设置在该沟道区域第二部分上且与该沟道区域第二部分绝缘,且设置为侧向地邻近该浮栅侧向突出物并与其绝缘,其中该控制栅包括形成于该控制栅内的控制栅凹穴,以及其中该浮栅侧向突出物延伸入该控制栅凹穴中,且该控制栅凹穴的形状与该浮栅侧向突出物的形状相配合。
地址 美国加利福尼亚州