发明名称 |
分色滤光阵列的形成方法 |
摘要 |
一种分色滤光阵列的形成方法。此方法是先于基底上形成第一分色滤光材料层。于第一分色滤光材料层上形成图案化光致抗蚀剂层后,移除暴露的第一分色滤光材料层,以形成多个第一分色滤光单元。于基底与图案化光致抗蚀剂层上形成第二分色滤光材料层。移除图案化光致抗蚀剂层以及图案化光致抗蚀剂层上的第二分色滤光材料层,留下多个第二分色滤光单元,其中第一分色滤光单元与第二分色滤光单元组成分色滤光阵列。通过蚀刻与剥离的方法,同时移除图案化光致抗蚀剂层与其上的第二分色滤光材料层,可以大幅简化分色滤光阵列的工艺步骤,以快速完成体积小的多色滤光阵列元件。 |
申请公布号 |
CN100468093C |
申请公布日期 |
2009.03.11 |
申请号 |
CN200610084548.4 |
申请日期 |
2006.05.25 |
申请人 |
联华电子股份有限公司;联诚光电股份有限公司 |
发明人 |
吴沂庭;欧富国 |
分类号 |
G02B5/20(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I |
主分类号 |
G02B5/20(2006.01)I |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
陶凤波;侯 宇 |
主权项 |
1. 一种分色滤光阵列的形成方法,该方法包括:于基底上,形成第一分色滤光材料层;于该第一分色滤光材料层上,形成硬掩模层;于该硬掩模层上,形成图案化光致抗蚀剂层;移除暴露的该硬掩模层与该第一分色滤光材料层,以形成多个第一分色滤光单元;于该基底与该图案化光致抗蚀剂层上,形成第二分色滤光材料层;移除该图案化光致抗蚀剂层以及该图案化光致抗蚀剂层上的该第二分色滤光材料层,将该多个第一分色滤光单元之间的该第二分色滤光材料层转换为多个第二分色滤光单元,其中该多个第一分色滤光单元与该多个第二分色滤光单元组成分色滤光阵列;以及移除该多个第一分色滤光单元上的该硬掩模层。 |
地址 |
中国台湾新竹科学工业园区 |