| 发明名称 | 真空控制系统 | ||
| 摘要 | 一种真空控制系统，包括一开关装置、一切换装置、一充排气装置、一高真空排气装置以及一控制装置。其中，该切换装置与该开关装置连结；该充排气装置与该切换装置连结；该高真空排气装置与该开关装置连结；该控制装置分别与该开关装置、该切换装置、该充排气装置及该高真空排气装置连结。 | ||
| 申请公布号 | CN100468629C | 申请公布日期 | 2009.03.11 |
| 申请号 | CN200510084765.9 | 申请日期 | 2005.07.20 |
| 申请人 | 台达电子工业股份有限公司 | 发明人 | 林世贤;洪荣宗;张正宜;黄志强 |
| 分类号 | H01L21/203(2006.01)I;C23C14/24(2006.01)I;F04B37/14(2006.01)I;G05D16/00(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/203(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 魏晓刚;李晓舒 |
| 主权项 | 1. 一种真空控制系统，应用于将一对象进行充排气的动作，包括:一开关装置；一切换装置，其与该开关装置连结；一充排气装置，其与该切换装置连结；一高真空排气装置，其与该开关装置连结；以及一控制装置，其分别与该开关装置、该切换装置、该充排气装置及该高真空排气装置电性连结，其特征在于:该控制装置控制在该充排气装置完成抽气步骤后，控制该高真空排气装置进一步抽气。 | ||
| 地址 | 中国台湾桃园县 | ||