发明名称 |
一种用于控制在处理腔室内处理气体的流动的装置 |
摘要 |
本发明涉及一种用于控制在处理腔室内处理气体的流动的装置。本发明一般包括用于引导处理气体的流动远离室壁和缝隙阀门开口的方法和装置。通过控制在处理腔室内处理气体的流动路径,可以减少在腔室壁上和缝隙阀门开口内的非预期沉积。通过减少在缝隙阀门开口内的沉积,可以减少剥落。通过减少在腔室壁上的沉积,可以增加在腔室清洗之间的时间。因此,引导在处理腔室内处理气体的流动可以提高衬底生产能力。 |
申请公布号 |
CN101381862A |
申请公布日期 |
2009.03.11 |
申请号 |
CN200810146690.6 |
申请日期 |
2008.09.04 |
申请人 |
应用材料股份有限公司 |
发明人 |
朴范洙;崔永镇;罗宾·L·泰内;金亨山;崔寿永;约翰·M·怀特;任东吉 |
分类号 |
C23C16/455(2006.01)I;C23C16/52(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 |
北京律诚同业知识产权代理有限公司 |
代理人 |
徐金国 |
主权项 |
1. 一种装置,包括:腔室体,具有贯穿第一侧壁的缝隙阀门开口;一个或多个引流器,与该腔室体的一个或多个侧壁连接;在缝隙阀门开口上方的一个或多个阻流器,连接到第一侧壁并且从第一侧壁延伸,该一个或多个阻流器连接到具有穿过其中的开口的引流器,该引流器的开口与该缝隙阀门开口基本上对齐;以及门,能够在覆盖该缝隙阀门开口的位置和第二位置之间移动。 |
地址 |
美国加利福尼亚州 |