| 发明名称 | 真空传输系统及其实现压力控制的方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种真空传输系统及其实现压力控制的方法，包括真空传输平台腔室，真空传输平台腔室的进气管路上设有质量流量控制器，通过控制进气管路上的质量流量控制器的开度，调节进入真空传输平台腔室的气体流量，实现对真空传输平台腔室的压力控制，使其与真空反应腔室的压力匹配，进而实现硅片传输过程中的颗粒控制的目的。 | ||
| 申请公布号 | CN101383312A | 申请公布日期 | 2009.03.11 |
| 申请号 | CN200710121342.9 | 申请日期 | 2007.09.04 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 魏晓 |
| 分类号 | H01L21/677(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/677(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人 | 赵镇勇 |
| 主权项 | 1、一种真空传输系统，包括真空传输平台腔室，所述真空传输平台腔室连接有进气管路，其特征在于，所述的进气管路上设有质量流量控制器，用于调节进入所述真空传输平台腔室的气体流量。 | ||
| 地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 | ||