发明名称 |
用于光刻装置的对准系统及其级结合光栅系统 |
摘要 |
本发明公开了一种用于光刻装置的对准系统及其级结合光栅系统,该对准系统包括提供照明光源的光源模块;传输照明光源的光束,垂直照明晶片上周期性光学结构对准标记的照明模块;采用显微物镜收集对准标记的多级次衍射光,采用多色光分离系统实现多波长衍射光的分离,并利用级结合光栅系统使对准标记衍射频谱的正、负级次的频谱光斑对应重叠相干的成像模块;采用差动莫尔信号探测方法,测量多个波长、多个级次频谱光斑对应位置处光强或位相的变化,得到对准标记位置信息的探测模块。级结合光栅系统包括光栅、反射镜和棱镜,使对准标记衍射频谱的+1—+n级和-1—-n级相同级次的正、负级衍射光斑对应重叠相干。以提供较高的对准精度和稳定性。 |
申请公布号 |
CN100468213C |
申请公布日期 |
2009.03.11 |
申请号 |
CN200610117228.4 |
申请日期 |
2006.10.18 |
申请人 |
上海微电子装备有限公司 |
发明人 |
徐荣伟;李铁军 |
分类号 |
G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;G02B27/44(2006.01)I |
主分类号 |
G03F9/00(2006.01)I |
代理机构 |
上海智信专利代理有限公司 |
代理人 |
王 洁 |
主权项 |
1. 用于光刻装置的对准系统,包括:光源模块、照明模块、成像模块、探测模块;所述的光源模块,提供用于对准系统的照明光源;所述的照明模块,传输照明光源的光束,垂直照明晶片上周期性光学结构的对准标记;其特征在于,所述的成像模块,采用显微物镜收集对准标记的多级次衍射光,并采用多色光分离系统实现多波长衍射光的分离,然后利用级结合光栅系统使对准标记衍射频谱的正、负级次的频谱光斑对应重叠相干;所述的探测模块,采用差动莫尔信号探测方法,通过测量多个波长、多个级次频谱光斑对应位置处的光强或位相的变化,得到对准标记的位置信息。 |
地址 |
201203上海市张江高科技园区张东路1525号 |