发明名称 用于光刻装置的对准系统及其级结合光栅系统
摘要 本发明公开了一种用于光刻装置的对准系统及其级结合光栅系统,该对准系统包括提供照明光源的光源模块;传输照明光源的光束,垂直照明晶片上周期性光学结构对准标记的照明模块;采用显微物镜收集对准标记的多级次衍射光,采用多色光分离系统实现多波长衍射光的分离,并利用级结合光栅系统使对准标记衍射频谱的正、负级次的频谱光斑对应重叠相干的成像模块;采用差动莫尔信号探测方法,测量多个波长、多个级次频谱光斑对应位置处光强或位相的变化,得到对准标记位置信息的探测模块。级结合光栅系统包括光栅、反射镜和棱镜,使对准标记衍射频谱的+1—+n级和-1—-n级相同级次的正、负级衍射光斑对应重叠相干。以提供较高的对准精度和稳定性。
申请公布号 CN100468213C 申请公布日期 2009.03.11
申请号 CN200610117228.4 申请日期 2006.10.18
申请人 上海微电子装备有限公司 发明人 徐荣伟;李铁军
分类号 G03F9/00(2006.01)I;G03F7/20(2006.01)I;H01L21/027(2006.01)I;G02B27/44(2006.01)I 主分类号 G03F9/00(2006.01)I
代理机构 上海智信专利代理有限公司 代理人 王 洁
主权项 1. 用于光刻装置的对准系统,包括:光源模块、照明模块、成像模块、探测模块;所述的光源模块,提供用于对准系统的照明光源;所述的照明模块,传输照明光源的光束,垂直照明晶片上周期性光学结构的对准标记;其特征在于,所述的成像模块,采用显微物镜收集对准标记的多级次衍射光,并采用多色光分离系统实现多波长衍射光的分离,然后利用级结合光栅系统使对准标记衍射频谱的正、负级次的频谱光斑对应重叠相干;所述的探测模块,采用差动莫尔信号探测方法,通过测量多个波长、多个级次频谱光斑对应位置处的光强或位相的变化,得到对准标记的位置信息。
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