发明名称 半导体装置及其制造方法
摘要 本发明系提供一种可于LCD驱动器等抑制由于小型化所造成之插塞之高电阻化,且可改善高耐压MISFET之闸极电极与布线间之耐压不良之技术。本发明系于LCD驱动器中,高耐压MISFET系闸极电极10b之端部搁置于电场缓和用绝缘区域3上。然后,于高耐压MISFET上之第一层层间绝缘膜上,形成有作为源极布线或汲极布线之布线HL1。此时,若从半导体基板1S与闸极绝缘膜8之界面,至闸极电极10b之上部之距离设为a,从闸极电极10b之上部,至形成有布线HL1之层间绝缘膜之上部之距离设为b,则a>b。于如此构成之高耐压MISFET中,布线HL1系配置为与高耐压MISFET之闸极电极10b不具有俯视重叠。
申请公布号 TW200910521 申请公布日期 2009.03.01
申请号 TW097116499 申请日期 2008.05.05
申请人 瑞萨科技股份有限公司 发明人 寺田雄佑;丰川滋也;前田敦
分类号 H01L21/768(2006.01);H01L21/76(2006.01);G02F1/1368(2006.01) 主分类号 H01L21/768(2006.01)
代理机构 代理人 陈长文
主权项
地址 日本