记忆体及其制造方法

摘要

一种记忆体，包括一介电层、一导体层、一第一埋设扩散区、一第二埋设扩散区以及一电荷储存结构。导体层系设置于介电层上，并可电性连接于至少一电压。第一埋设扩散区及第二埋设扩散区系相互隔开地设置于导体层之表面。电荷储存结构系设置于导体层上，并位于第一埋设扩散区及第二埋设扩散区之间。