发明名称 光学特性之测量方法、光学特性之调整方法、曝光装置、曝光方法及曝光装置之制造方法(二)
摘要 本发明之光学特性之测量方法系测量于第2面形成配置于第1面之物体影像之光学系统之光学特性者,其具有于前述第1面配置至少1个相位图案之配置步骤、以预定波长光照明以前述配置步骤配置之前述相位图案之照明步骤、在藉由前述相位图案及前述光学系统形成之图案影像中抽出部份影像之抽出步骤、及检测与以前述抽出步骤抽出之前述部份影像相关之光之资讯之检测步骤。
申请公布号 TW200910020 申请公布日期 2009.03.01
申请号 TW097123693 申请日期 2008.06.25
申请人 尼康股份有限公司 发明人 外山洁;中村绫子
分类号 G03F7/20(2006.01);G01M11/02(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/20(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 日本