发明名称 |
蚀刻液组成物 |
摘要 |
本发明系提供一种蚀刻液组成物。本发明之课题在于对铝膜、铝合金膜等的金属膜控制性佳且抑制、防止光阻渗透的产生而进行蚀刻,可得所欲的锥形形状、具有良好的平坦性之金属膜。解决之手段在于使用含有磷酸、硝酸、有机酸盐之水溶液,作为对基板上的金属膜进行蚀刻用之蚀刻液组成物。作为前述有机酸盐,系使用选自脂肪族单羧酸、脂肪族多羧酸、脂肪族次碳酸、芳香族单羧酸、芳香族多羧酸、芳香族次碳酸所成群的至少1种之选自铵盐、胺盐、4级铵盐、硷金属盐所成群的至少1种。而且,使前述有机酸盐的浓度为0.1~20重量%的范围。而且,使本发明的蚀刻液组成物用于前述金属膜为铝或铝合金的情况。 |
申请公布号 |
TW200909610 |
申请公布日期 |
2009.03.01 |
申请号 |
TW097127162 |
申请日期 |
2008.07.17 |
申请人 |
林纯药工业股份有限公司;三洋电机股份有限公司;三洋半导体股份有限公司;三洋半导体制造股份有限公司 |
发明人 |
田湖次广;松田知丈;木村真弓;青山哲男 |
分类号 |
C23F1/20(2006.01);H01L21/306(2006.01) |
主分类号 |
C23F1/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
主权项 |
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地址 |
日本 |