METHOD OF FORMING SILICIDE FILMS IN SEMICONDUCTOR DEVICES,申请号KR20040043346-传众专利搜索

发明名称	METHOD OF FORMING SILICIDE FILMS IN SEMICONDUCTOR DEVICES
摘要
申请公布号	KR100886260(B1)	申请公布日期	2009.02.27
申请号	KR20040043346	申请日期	2004.06.12
申请人		发明人
分类号	H01L21/28;H04N5/217;H01L21/24;H01L21/285;H01L21/336;H01L21/8234;H01L27/088;H01L29/78;(IPC1-7):H04N5/217	主分类号	H01L21/28
代理机构		代理人
主权项
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