| 摘要 |
<p>Полезная модель относится к технике получения низкотемпературной плазмы в больших вакуумных объемах и может быть использовано для очистки, активации, модификации поверхностности металлов и сплавов (азотирование, цементация и др.), а также ионно-плазменного ассистирования при нанесении упрочняющих и защитных покрытий. Технический результат - улучшение равномерности эрозии полого катода источника газоразрядной плазмы и увеличение его срока службы. Для этого в источнике плазмы, состоящем из вакуумной камеры-анода и полого цилиндрического холодного катода, установлено две или более магнитные катушки за счет переключения тока между которыми создается перемещающееся магнитное поле в результирующем максимуме которого удерживается катодное пятно.</p> |
