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Es ist ein Verfahren zum Vermessen von Strukturen (3) auf einem Substrat (2) mit einer Koordinaten-Messmaschine (1) offenbart. Zum Vermessen von mindestens einer Struktur (3) auf dem Substrat (2) wird ein vordefiniertes Messverfahren angewendet, wobei das Vermessen die Position und/oder die Breite der Struktur (3) umfasst. Das vordefinierte Messverfahren besteht aus einer Vielzahl von Prozessen, die mit dem Koordinatensystem (1a) der Koordinaten-Messmaschine (2) verknüpft sind. Das Messverfahren für ein Substrat wird mit einer esten Orientierung in Bezug auf das Koordinatensystem der Koordinaten-Messmaschine (1) definiert. Das vordefinierte Messverfahren wird auf eine zweite Orientierung des Substrats (2) angewendet.
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