| 发明名称 | 硅片角度定位装置及反应腔室 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种硅片角度定位装置及设有该装置的反应腔室。硅片角度定位装置包括刻度盘，刻度盘为圆形，刻度盘的上表面沿与刻度盘同心的圆周方向刻有均分360度的刻度线。反应腔室内设有硅片角度定位装置，与硅片支撑装置的中心轴线重合。可以直接读出硅片支撑装置上的硅片缺口所对准的角度，使用方便、测量准确。 | ||
| 申请公布号 | CN101373730A | 申请公布日期 | 2009.02.25 |
| 申请号 | CN200710120493.2 | 申请日期 | 2007.08.20 |
| 申请人 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | 发明人 | 魏晓 |
| 分类号 | H01L21/68(2006.01);H01L21/67(2006.01) | 主分类号 | H01L21/68(2006.01) |
| 代理机构 | 北京凯特来知识产权代理有限公司 | 代理人 | 赵镇勇 |
| 主权项 | 1.一种硅片角度定位装置，其特征在于，包括刻度盘，所述的刻度盘为圆形，所述刻度盘的上表面，沿与刻度盘同心的圆周方向刻有均分360度的刻度线。 | ||
| 地址 | 100016北京市朝阳区酒仙桥东路1号M5座2楼 | ||