| 发明名称 | 用于大功率激光处理的系统和方法 | ||
| 摘要 | 本文公开了一种大功率激光处理系统，该系统包含激光源和至少一个光学元件。该激光源用于提供第一波长的大功率激光照射，该光学元件包含对于该第一波长照射基本是透明的衬底、在该衬底的第一侧面上的至少一个强反射涂层、以及在该衬底的第二侧面上的至少一个抗反射涂层。 | ||
| 申请公布号 | CN101375474A | 申请公布日期 | 2009.02.25 |
| 申请号 | CN200680030375.6 | 申请日期 | 2006.07.07 |
| 申请人 | 杰斯集团公司 | 发明人 | 戴维·布朗 |
| 分类号 | H01S3/13(2006.01);G02B6/00(2006.01) | 主分类号 | H01S3/13(2006.01) |
| 代理机构 | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人 | 李镇江 |
| 主权项 | 1.一种大功率激光处理系统，该系统包含用于提供第一波长的大功率激光照射的激光源和至少一个光学元件，该至少一个光学元件包含对于所述第一波长照射基本是透明的衬底、在所述衬底的第一侧面上的至少一个强反射涂层、以及在所述衬底的第二侧面上的至少一个抗反射涂层。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞 | ||