| 发明名称 | 曝光方法、曝光装置、光罩以及光罩的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明是分别经由具有放大倍率的多个投影光学系统，将光罩(M)的图案(M1、M2)投影曝光于基板上的曝光方法，此曝光方法是将具有以对应于上述放大倍率的位置关系而非连续地配置的第1图案区域(M1)、以及至少一部分设于第1图案区域(M1)之间的第2图案区域(M2)的光罩(M)，配置于投影光学系统的物体面侧，使第1图案区域(M1)与第2图案区域(M2)中的其中一个图案区域的放大像分别投影曝光至配置于投影光学系统的像面侧的基板上之后，将另一个图案区域的放大像投影曝光于该基板上。 | ||
| 申请公布号 | CN101375372A | 申请公布日期 | 2009.02.25 |
| 申请号 | CN200780003500.9 | 申请日期 | 2007.02.08 |
| 申请人 | 株式会社尼康 | 发明人 | 加藤正纪 |
| 分类号 | H01L21/027(2006.01);G03F1/08(2006.01);G03F7/20(2006.01) | 主分类号 | H01L21/027(2006.01) |
| 代理机构 | 北京中原华和知识产权代理有限责任公司 | 代理人 | 寿宁 |
| 主权项 | 1.一种曝光方法，是分别经由具有放大倍率的多个投影光学系统，将设于第1物体上的图案投影曝光于第2物体上的曝光方法，其特征在于其包括以下步骤:将具有以对应于上述放大倍率的位置关系而非连续地配置的第1图案区域、以及至少一部分设于上述第1图案区域之间的第2图案区域的上述第1物体，配置于上述多个投影光学系统的第1面侧；以及使上述第1图案区域及上述第2图案区域中的上述第1图案区域的放大像，分别经由上述多个投影光学系统而投影曝光至配置于上述多个投影光学系统的第2面侧的上述第2物体上。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||