| 发明名称 | 处理装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种处理装置，其在处理容器内流入处理气体并对被处理体进行处理时，能够提高处理的面内均匀性，抑制颗粒附着在被处理体上。在侧壁部(21)上具备通过开闭机构(23)被开闭的搬入搬出口(22)的处理容器(20)中，设置整流用结构体(5)，其包围基板(S)的载置台(3)的载置区域，且其上端比基板(S)的搬送高度位置更高，用于在载置于上述载置台(3)上的基板(S)的周围形成处理气体的气体滞留区域，减慢基板(S)的周边部的上述处理气体的流速。该整流用结构体(5)的上述搬入搬出口(22)侧构成为隧道部件(51)，该隧道部件(51)用于在该搬入搬出口(22)与上述载置区域端之间区划形成基板(S)的搬送通路(P)。 | ||
| 申请公布号 | CN101373707A | 申请公布日期 | 2009.02.25 |
| 申请号 | CN200810214011.4 | 申请日期 | 2008.08.22 |
| 申请人 | 东京毅力科创株式会社 | 发明人 | 东条利洋;佐佐木和男 |
| 分类号 | H01L21/00(2006.01);H01L21/02(2006.01);H01L21/3213(2006.01);H01L21/3065(2006.01);H01L21/205(2006.01);H01L21/677(2006.01);C23F4/00(2006.01);G03F7/42(2006.01);C23C16/44(2006.01);C23C16/455(2006.01);H01J37/32(2006.01) | 主分类号 | H01L21/00(2006.01) |
| 代理机构 | 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人 | 龙淳 |
| 主权项 | 1.一种处理装置，其特征在于，包括：设置于处理容器内部且用于在其上部载置被处理体的载置台；用于从所述载置台的上方侧供给处理气体，并对载置在所述载置台上的被处理体进行处理的处理气体供给机构；用于对所述处理容器的内部进行排气的排气机构；形成于所述处理容器的侧壁部，且通过开闭部件被开闭的所述被处理体的搬入搬出口；和整流用结构体，其以包围所述载置台上的被处理体载置区域的方式设置，用于在载置于所述载置台上的被处理体的周围形成处理气体的气体滞留区域，使该被处理体周边部的所述处理气体的流速变慢，所述整流用结构体的所述搬入搬出口侧构成为筒状部件，该筒状部件用于区划形成从该搬入搬出口朝向所述被处理体载置区域的被处理体搬送路径。 | ||
| 地址 | 日本东京都 | ||