Verfahren zur Herstellung eines Halbleiter-Bauelements, Halbleiter-Bauelement sowie Zwischenprodukt bei der Herstellung desselben

摘要

Ein Verfahren zum Herstellen von Halbleiter-Bauelementen mit einer Kontakt-Struktur mit einem hohen Aspektverhältnis umfasst die folgenden Schritte: Bereitstellen eines im Wesentlichen flächigen Halbleiter-Substrats (2) mit einer ersten Seite (3) und einer zweiten Seite (4), Aufbringen einer Maske (6) auf mindestens einen ersten Teilbereich (7) auf mindestens einer der Seiten (3, 4) des Halbleiter-Substrats (2) und Aufbringen einer Kontakt-Struktur (8) auf mindestens einen vom ersten Teilbereich (7) verschiedenen zweiten Teilbereich (9) auf mindestens einer der Seiten (3, 4) des Halbleiter-Substrats (2).