| 摘要 |
<p>Det beskrives en fremgangsmåte for fremstilling av aktive overflater som avsluttes av en ønsket form av et organisk, organisk-uorganisk eller uorganisk art omfattende vekst med en gassfaseavsetningsteknikk som fortrinnsvis ALCVD (atomsjiktkjemisk dampavsetning). Som et eksempel har trimetylaluminium (TMA), hydrokinon (Hq) og floroglucinol (Phl) vært benyttet som forløpere for å gi overflater som avsluttes av hydroksylgrupper bundet til aromater. Ytterligere typer aktive overflater er beskrevet. Disse overflatene kan benyttes for å fremstille overflater egnet for adhesjon via bruk av lim eller andre midler, å tilveiebringe reseptorer for biologiske molekyler, å gjøre overflatene biokompatible, av katalytisk aktive materialer, der etterfølgende typer av kjemiske reaksjoner kan skje, med forskjellig grad av fukteegenskaper.</p> |
