发明名称 Lithographischer Apparat und Verfahren zur Herstellung einer Vorrichtung
摘要
申请公布号 DE60132944(T2) 申请公布日期 2009.02.19
申请号 DE20016032944T 申请日期 2001.04.12
申请人 ASML NETHERLANDS B.V. 发明人 JANSSEN, HENDRICUS WILHELMUS ALOYSIUS;RENKENS, MICHAEL JOZEFA MATHIJS;TABOR, ROB;VIJFVINKEL, JAKOB;SCHNEIDER, RONALD MAARTEN;BISSCHOPS, THEODORUS HUBERTUS JOSEPHUS
分类号 G03F7/20;H01L21/027 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人
主权项
地址