| 发明名称 | 用于分批式反应室的加热装置 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种用于分批式反应室的加热装置，其中包括多个加热器的加热器群沿着反应室的周边重复布置，每个加热器具有温度控制部件、施压线、一对第一及第二加热单元，所述成对的第一和第二加热单元彼此分隔并用作反应室的加热体；其中每对第一及第二加热单元的总长度是固定的，每个第一加热单元具有不同的长度，每个第二加热单元具有不同的长度。 | ||
| 申请公布号 | CN101371342A | 申请公布日期 | 2009.02.18 |
| 申请号 | CN200780002338.9 | 申请日期 | 2007.01.15 |
| 申请人 | 泰拉半导体株式会社 | 发明人 | 张泽龙;李炳一;李永浩 |
| 分类号 | H01L21/324(2006.01) | 主分类号 | H01L21/324(2006.01) |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 | 代理人 | 刘兴鹏;邵伟 |
| 主权项 | 1.一种用于分批式反应室的加热装置，其中包括多个加热器的加热器群沿着反应室的周边重复布置，其中每个加热器具有温度控制部件、施压线、一对第一及第二加热单元，所述成对的第一和第二加热单元彼此分隔并用作反应室的加热体；和其中每对第一及第二加热单元的总长度是固定的，每个第一加热单元具有不同的长度，每个第二加热单元具有不同的长度。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||