| 发明名称 | 固态成像装置及其制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明揭示了一种固态成像装置及其制造方法。将光电转换器二维设置在半导体衬底中。在该半导体衬底和光电转换器上依次形成平坦化层、遮光膜、另一平坦化层和聚光透镜。该遮光膜在对应于光电转换器的位置具有孔。在这些孔中设置能透射光的红色、绿色或蓝色波长成分的多层干涉滤光片。 | ||
| 申请公布号 | CN101369556A | 申请公布日期 | 2009.02.18 |
| 申请号 | CN200810145904.8 | 申请日期 | 2006.01.17 |
| 申请人 | 松下电器产业株式会社 | 发明人 | 笠野真弘;稻叶雄一;山口琢己 |
| 分类号 | H01L21/822(2006.01);H01L27/146(2006.01);G02B5/20(2006.01);G02B5/28(2006.01) | 主分类号 | H01L21/822(2006.01) |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 臧霁晨;张志醒 |
| 主权项 | 1.一种固态成像装置的制造方法，包括：第一步，在具有二维设置的光电转换器的半导体衬底上形成多层干涉滤光片，所述多层干涉滤光片具有取决于所要透射的光线的波长的不同的膜厚；第二步，在所述多层干涉滤光片上形成绝缘膜，所述绝缘膜具有大于或等于所述多层干涉滤光片之间的膜厚差的膜厚；第三步，将除了与所述光电转换器相对的部分之外的绝缘膜和多层干涉滤光片除去以形成凹槽；第四步，在所述绝缘膜和半导体衬底上层压遮光材料；以及第五步，抛光所层压的遮光材料和绝缘膜直至所述多层干涉滤光片最厚的部分露出来。 | ||
| 地址 | 日本大阪府 | ||