| 发明名称 | 离子源、系统和方法 | ||
| 摘要 | 公开了离子源、系统和方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101371326A | 申请公布日期 | 2009.02.18 |
| 申请号 | CN200680051529.X | 申请日期 | 2006.11.15 |
| 申请人 | 阿利斯公司 | 发明人 | 比利·W·沃德;约翰·A·诺特四世;路易斯·S·法卡斯三世;兰德尔·G·珀西瓦尔;雷蒙德·希尔 |
| 分类号 | H01J9/02(2006.01);H01J37/08(2006.01);H01J37/252(2006.01);H01J37/305(2006.01);H01J37/317(2006.01);H01J27/26(2006.01);B81B1/00(2006.01);G01N23/225(2006.01);G12B21/02(2006.01) | 主分类号 | H01J9/02(2006.01) |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人 | 陶凤波 |
| 主权项 | 1.一种系统，包括：能够与气体相互作用从而产生在样品的表面具有10nm或更小尺寸的斑点尺寸的离子束的气体场离子源。 | ||
| 地址 | 美国马萨诸塞州 | ||