发明名称 抗反射涂料
摘要 一种抗反射涂层,它包含:(i)具有下述通式的倍半硅氧烷树脂:(PhSiO<SUB>(3-x)/2</SUB>(OH)<SUB>x</SUB>)<SUB>m</SUB>HSiO<SUB>(3-x)/2</SUB>(OH)<SUB>x</SUB>)<SUB>n</SUB>(MeSiO<SUB>(3-x)/2</SUB>(OH)<SUB>x</SUB>)<SUB>p</SUB>,其中Ph是苯基,Me是甲基,x的数值为0、1或2;m的数值为0.01-0.99,n的数值为0.01-0.99,p的数值为0.01-0.99,和m+n+p=1;(ii)聚环氧乙烷流体;和(iii)溶剂。
申请公布号 CN101371196A 申请公布日期 2009.02.18
申请号 CN200680052719.3 申请日期 2006.12.07
申请人 陶氏康宁公司 发明人 P-F·付;E·S·莫耶
分类号 G03F7/075(2006.01);G03F7/09(2006.01) 主分类号 G03F7/075(2006.01)
代理机构 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人 张钦
主权项 1.一种电子器件上形成抗反射涂层的方法,该方法包括:(A)施加ARC组合物到电子器件上,所述ARC组合物包含:(i)具有下述通式的倍半硅氧烷树脂:(PhSiO(3-x)/2(OH)x)mHSiO(3-x)/2(OH)x)n(MeSiO(3-x)/2(OH)x)p 其中Ph是苯基,Me是甲基,x的数值为0、1或2;m的数值为0.01-0.99,n的数值为0.01-0.99,p的数值为0.01-0.99,和m+n+p≈1;(ii)聚环氧乙烷流体;和(iii)溶剂;和(B)除去溶剂并固化所述倍半硅氧烷树脂,以在电子器件上形成抗反射涂层。
地址 美国密执安