发明名称 |
纳米材料相转移侦测装置及方法 |
摘要 |
本发明涉及一种纳米材料相转移侦测装置,其包括一真空腔,用于盛装一待测纳米流体;一加热装置,以供该纳米流体加热;一衰减全反射晶体,其包括一第一端面及一第二端面,及位于该第一端面与第二端面之间的多个侧面,该多个侧面形成有一高分子薄膜,该衰减全反射晶体位于该真空腔内及该纳米流体上方,且该第一端面及第二端面均位于该真空腔外;一光源,用于提供一光束经由该第一端面以全反射入射角入射到该衰减全反射晶体内;一光谱侦测器,用于接收由该第二端面出射的光束以侦测该纳米材料的特征吸收峰。本发明还提供一纳米材料相转移侦测方法。 |
申请公布号 |
CN100462711C |
申请公布日期 |
2009.02.18 |
申请号 |
CN200510035291.9 |
申请日期 |
2005.06.10 |
申请人 |
鸿富锦精密工业(深圳)有限公司;鸿海精密工业股份有限公司 |
发明人 |
陈升熙 |
分类号 |
G01N21/31(2006.01) |
主分类号 |
G01N21/31(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
1.一种纳米材料相转移侦测装置,其包括:一真空腔,用于盛装一待测纳米流体;一加热装置,以供该纳米流体加热;一衰减全反射晶体,其包括一第一端面及与该第一端面相对的第二端面,及位于该第一端面与第二端面之间并与该第一端面和第二端面相邻的多个侧面,该多个侧面形成有一高分子薄膜,该衰减全反射晶体位于该真空腔内及该纳米流体上方,且该第一端面及第二端面均位于该真空腔外;一光源,用于提供一光束经由该第一端面以一全反射入射角入射到该衰减全反射晶体内;一光谱侦测器,用于接收经由该第二端面出射的光束以侦测该纳米流体中纳米材料的特征吸收峰。 |
地址 |
518109广东省深圳市宝安区龙华镇油松第十工业区东环二路2号 |