| 发明名称 | 一种用于半导体装置的设备 | ||
| 摘要 | 一种用于一个半导体装置的设备，其包括：一个具有上部分及下部分之室，所述下部分的体积大于所述上部分的体积；一个位子所述室内的感受器，所述感受器在其上表面具有一个基板；一个将生产气体注入所述室的注入器；一个位于所述室上的线圈组；一个与所述线圈组相连的射频电源；和一个通过所述室的排气口。 | ||
| 申请公布号 | CN100463112C | 申请公布日期 | 2009.02.18 |
| 申请号 | CN200410045521.5 | 申请日期 | 2004.05.28 |
| 申请人 | 周星工程股份有限公司 | 发明人 | 韩政勋;李永锡;郑淳彬;李政范;金哲植;全昌烨;高在亿;金映录;沈成垠;李龙炫;刘真赫;姜大凤 |
| 分类号 | H01L21/205(2006.01);H01L21/285(2006.01);H01L21/31(2006.01);H01L21/3205(2006.01);C23C16/44(2006.01);C23C16/00(2006.01) | 主分类号 | H01L21/205(2006.01) |
| 代理机构 | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人 | 程伟;王锦阳 |
| 主权项 | 1.一种用于一个半导体装置的设备，其包括：一个具有上部分和下部分的室，所述下部分的水平横截面面积沿垂直方向从接近所述上部分的顶部到中部逐渐增加，再从所述中部到底部逐渐减小；一个位于室内的感受器，所述感受器具有位于其顶面上的基板，其中所述感受器上下移动，从而具有分别对应于最大高度和最小高度的第一位置和第二位置，并且其中以位于所述第二位置的所述感受器的顶面为参照将所述室分为上部分和下部分，且所述下部分的体积大于所述上部分的体积；一个将生产气体注入所述室内的注入器；一个位于所述室上的线圈组；一个与所述线圈组相连的射频电源；和一个通过所述室的排气口。 | ||
| 地址 | 韩国京畿道 | ||