发明名称 |
具有真空抽吸系统和至少一个容纳释放的有害物质的沉积物的第一容置区的激光加工装置和方法 |
摘要 |
一种用于对在激光加工时释放有害物质的材料(15)进行加工的激光加工装置,包括真空抽吸系统(24,25)以抽吸至少一部分从装置的加工区域释放的有害物质。至少一个第一容置区(36)包围所述加工区域以容纳任何未抽吸的释放出的有害物质的沉积物。第二容置区(37)可围绕第一容置区并且在两个区(36,37)之间可存在压力差以辅助将有害物质的沉积物容纳至第一容置区(36)。可设置传送腔(40)以传送已加工的材料(15)至清洗台以防止在对任何沉积有有害物质的已加工的材料(15)进行传送的过程中的来自激光加工装置的释放。 |
申请公布号 |
CN101370612A |
申请公布日期 |
2009.02.18 |
申请号 |
CN200780002596.7 |
申请日期 |
2007.02.01 |
申请人 |
XSIL技术有限公司 |
发明人 |
约翰·奥哈洛伦;约翰·塔利;帕特·格兰姆斯 |
分类号 |
B23K26/12(2006.01);B23K26/14(2006.01);B23K26/16(2006.01);B23K26/40(2006.01) |
主分类号 |
B23K26/12(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
杨梧 |
主权项 |
1.一种用于对在激光加工过程中释放有害物质的基片进行加工的激光加工装置,所述装置包括真空抽吸系统,该真空抽吸系统包括围绕加工区域的壳体以从装置的加工区域抽吸至少一部分释放的有害物质,并且所述装置包括至少一些在所述壳体内的第一容置区,所述第一容置区包围所述加工区域,所述第一容置区被设置成基本容纳任何未抽吸的释放的有害物质的沉积物。 |
地址 |
爱尔兰都柏林 |