| 发明名称 | 用于化学机械抛光的互穿网络 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种化学机械抛光垫，其中该化学机械抛光垫具有抛光层，该抛光层含有包括连续的耐久性相和基本上共－连续的不稳定性相的互穿网络。本发明还提供了制造该化学机械抛光垫的方法和使用该化学机械抛光垫抛光基材的方法。 | ||
| 申请公布号 | CN101367204A | 申请公布日期 | 2009.02.18 |
| 申请号 | CN200810210493.6 | 申请日期 | 2008.08.14 |
| 申请人 | 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 | 发明人 | G·P·马尔多尼 |
| 分类号 | B24D13/14(2006.01);B24B29/00(2006.01);H01L21/304(2006.01) | 主分类号 | B24D13/14(2006.01) |
| 代理机构 | 上海专利商标事务所有限公司 | 代理人 | 陈哲锋 |
| 主权项 | 1.一种用于抛光选自磁性基材、光学基材和半导体基材中的至少一种的基材的化学机械抛光垫，所述抛光垫包括：包括互穿网络的抛光层，其中所述互穿网络含有连续的耐久性相和基本上共-连续的不稳定性相；其中所述抛光层的抛光表面适合抛光所述基材。 | ||
| 地址 | 美国特拉华州 | ||