发明名称 | 复合式间隔之多晶片堆叠构造 | ||
摘要 | 揭示一种复合式间隔之多晶片堆叠构造,主要包含一晶片载体、一下晶片、至少一叠设于该下晶片上之上晶片、复数个焊线以及在堆叠晶片间之一第一间隔胶层与一第二间隔胶层。该下晶片系设置该晶片载体并具有复数个主动面周边之焊垫,以供该些焊线连接至该晶片载体。该第一间隔胶层系设于该下晶片之周边,以密封该些焊线之一端。该第二间隔胶层系形成于该上晶片之背面。当晶片堆叠时,该第二间隔胶层系用以界定该第一间隔胶层之厚度,该第二间隔胶层与该第一间隔胶层图案互补并组成为同一层。因此,能有效降低晶片堆叠高度,并能避免晶片堆叠时压线而造成焊线短路之情事发生。 | ||
申请公布号 | TW200908280 | 申请公布日期 | 2009.02.16 |
申请号 | TW096130065 | 申请日期 | 2007.08.14 |
申请人 | 力成科技股份有限公司 | 发明人 | 徐宏欣;吴智伟;尤启仲 |
分类号 | H01L25/04(2006.01) | 主分类号 | H01L25/04(2006.01) |
代理机构 | 代理人 | 许庆祥 | |
主权项 | |||
地址 | 新竹县湖口乡新竹工业区大同路26号 |