用于化学机械研磨后（ｐｏｓｔ－ＣＭＰ）清洗配方之新颖抗氧化剂

摘要

本发明系关于一种用于自具有化学机械研磨(CMP)后残留物及污染物之微电子装置上清洗该残留物及污染物的清洗组成物及方法。该清洗组成物包含新颖的腐蚀抑制剂。该组成物达成CMP后残留物及污染物质自微电子装置表面之高度有效的清洗，而不会损及低k介电材料或铜互连材料。