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发明名称
微细图案形成方法及被覆膜形成用材料
摘要
本发明提供一种于支持体上形成微细且形状良好之树脂图案的微细图案形成方法、以及该微细图案形成方法中所使用之被覆膜形成用材料。于支持体上涂布感光性树脂组成物,选择性曝光后,进行显影而形成第一树脂图案,于该第一树脂图案的表面形成由水溶性树脂膜所构成的被覆膜而形成被覆图案,于形成有该被覆图案之支持体上涂布含有光酸产生剂之树脂组成物,进行全面曝光后,以溶剂加以清洗,形成在被覆图案的表面上形成有树脂膜之第二树脂图案。被覆膜系使用由含有水溶性树脂以及水溶性交联剂之水溶液所构成的被覆膜形成用材料形成。
申请公布号
TW200908094
申请公布日期
2009.02.16
申请号
TW097129564
申请日期
2008.08.04
申请人
东京应化工业股份有限公司
发明人
石川清;越山淳;屋和正
分类号
H01L21/027(2006.01);G03F7/09(2006.01)
主分类号
H01L21/027(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财;李世章
主权项
地址
日本
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