半导体积体电路装置之制造方法

摘要

于半导体积体电路装置之光微影制程中，愈来愈需要独立地以高精度来控制曝光量与聚焦值。使用先行处理过之晶圆，利用散射测量法获得光阻之剖面轮廓，藉此，使用由多变量分析法所获得之推测式独立地以高精度推断出曝光量与聚焦值，根据此修正后续处理之晶圆曝光时的聚焦设定。