清洁锡烷分配系统的方法

摘要

本发明系关于清洁锡烷分配系统之方法。提供连接锡烷供应源与半导体制造工具之锡烷分配系统。锡烷系流过该系统并于该分配系统之组件上形成锡层。然后将该锡层自分配系统清除而无需使用液体清洁化学品。