发明名称 电感耦合线圈及电感耦合电浆装置
摘要 本发明公开了一种电感耦合线圈及应用该电感耦合线圈的电感耦合电浆装置,包括内部线圈和外部线圈,内部线圈与外部线圈相互独立且同轴线配置;内部线圈由多个结构相同的内部独立分支嵌套构成,多个内部独立分支相对轴线中心对称配置;外部线圈由多个结构相同的外部独立分支嵌套构成,多个外部独立分支相对轴线中心对称配置。电感耦合线圈设于电感耦合电浆装置的反应室上部,并与射频电源连接。可以使电浆在反应腔室的晶片上方分布均匀,使晶片表面发生的化学反应速度差异较小,蚀刻速率均匀,提高蚀刻晶片的品质。主要用于半导体晶片加工设备,也适用于其他的设备。
申请公布号 TW200908816 申请公布日期 2009.02.16
申请号 TW096129816 申请日期 2007.08.13
申请人 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 发明人 宋巧丽;南建辉
分类号 H05H1/46(2006.01) 主分类号 H05H1/46(2006.01)
代理机构 代理人 恽轶群;陈文郎
主权项
地址 中国