ＣＭＯＳ影像感测元件之制作方法

摘要

一种CMOS影像感测元件之制作方法，包含有提供一定义有一感测器阵列区与一周边区之基底、于该周边区形成至少一接触垫、形成一覆盖该接触垫之第一介电层、进行一第一蚀刻制程，移除部分该第一介电层，以暴露出该接触垫并形成一突起。于该周边区内形成一光挡层，并形成复数个彩色滤光片于该感测器阵列区内。最后，于该等彩色滤光片及该光挡层上形成一平坦层，并于平坦层表面形成复数个微透镜。