供相变材料之化学－机械研磨用之组合物及方法

摘要

本发明系关于一种适合研磨含有相变材料（phase change material，PCM）之基材的化学-机械研磨（chemical-mechanical polishing，CMP）组合物，上述相变材料（PCM）例如锗锑碲（germanium-antimony-tellurium，GST）合金。该组合物包含一结合离胺酸之微粒磨料、一视需要之氧化剂、及一用于此之水性载体。本发明亦关于一种利用上述组合物研磨一含有相变材料之基材的CMP方法。