发明名称 |
照射装置、半导体装置之制造装置、半导体装置之制造方法及显示装置之制造方法 |
摘要 |
本发明系提供一种照射装置、半导体装置之制造装置、半导体装置之制造方法及显示装置之制造方法,其藉由对必要之光束直径谋求焦点位置的最适化,可在不受半导体雷射之个体差等之影响下,对被照射物进行雷射光照射。本发明之照射装置,系将自半导体雷射之出射光束照射于被照射物者,若将向上述被照射物之照射光束半径设为w、上述半导体雷射之发散角广度个体差之比例设为Δ、上述半导体雷射之光束波长设为λ时,以使存在于上述半导体雷射与上述被照射物之间之照射光学系统的焦点位置与上述被照射物之距离z成为由上述w、上述Δ及上述λ以特定演算式所导出之值之方式,使上述焦点位置离焦。 |
申请公布号 |
TW200908103 |
申请公布日期 |
2009.02.16 |
申请号 |
TW097112003 |
申请日期 |
2008.04.02 |
申请人 |
新力股份有限公司 |
发明人 |
月原浩一 |
分类号 |
H01L21/268(2006.01);G02B26/10(2006.01) |
主分类号 |
H01L21/268(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
日本 |