| 摘要 |
本发明系关于一种基板之测定装置，包含：载具(2)，用于容纳欲被测定的基板；测定物镜，将该载具(2)所固持的基板之一部分成像于一个侦测器上；测定装置，藉此将该载具(2)之位置成像于一个侦测器(12)上；测定装置，藉此决定出固持住基板的该载具(2)之相对于测定物镜的位置，而该测定装置包含至少一个用于决定位置的雷射干涉仪(5)；第一充溢装置，以层流方式使第一充溢媒质通过此基板测定装置，用以产生固定的测定氛围；以及，调整装置，藉此使该载具(2)可以相对于该测定物镜而移动。在此种基板测定装置中，设有第二充溢装置，使第二充溢媒质通过其中放置有该至少一个雷射干涉仪(5)的测定装置之区域。 |
