发明名称 抗反射性聚合物、含有它之抗反射性组成物、及使用它以形成图案之方法
摘要 本发明系关于一种用于与具高折射率之抗反射膜交联之聚合物,及一种含有它之抗反射性组成物,其系特别适用于镶嵌制程及半导体制程中使用ArF(193nm)之浸渍式微影术。
申请公布号 TW200907582 申请公布日期 2009.02.16
申请号 TW097121513 申请日期 2008.06.10
申请人 海力士半导体股份有限公司 发明人 郑载昌;李晟求
分类号 G03F7/09(2006.01);H01L21/312(2006.01);H01L21/027(2006.01) 主分类号 G03F7/09(2006.01)
代理机构 代理人 何金涂;丁国隆
主权项
地址 南韩