发明名称 |
抗反射性聚合物、含有它之抗反射性组成物、及使用它以形成图案之方法 |
摘要 |
本发明系关于一种用于与具高折射率之抗反射膜交联之聚合物,及一种含有它之抗反射性组成物,其系特别适用于镶嵌制程及半导体制程中使用ArF(193nm)之浸渍式微影术。 |
申请公布号 |
TW200907582 |
申请公布日期 |
2009.02.16 |
申请号 |
TW097121513 |
申请日期 |
2008.06.10 |
申请人 |
海力士半导体股份有限公司 |
发明人 |
郑载昌;李晟求 |
分类号 |
G03F7/09(2006.01);H01L21/312(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/09(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
何金涂;丁国隆 |
主权项 |
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地址 |
南韩 |