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发明名称
用于沉积均一矽薄膜之设备及其制造方法
摘要
本发明提供具有界定在基板支撑组件与气体分配板之间的梯度间隔,且用于沉积供太阳能电池应用之矽薄膜的设备及方法。在一实施例中,一种沉积用于太阳能电池应用的薄膜之设备包括:一制程室;一基板支撑件,设置于制程室中,且配置以在其上支撑一四边形基板;以及一气体分配板,设置于制程室中而位于基板支撑件上方,其中气体分配板的一底表面具有一周围,且周围包括边缘及角落,其中气体分配板的的角落系相较于气体分配板的边缘而较为接近基板支撑件。
申请公布号
TW200908361
申请公布日期
2009.02.16
申请号
TW097121452
申请日期
2008.06.09
申请人
应用材料股份有限公司
发明人
崔寿永;元泰景;朴范洙;怀特约翰M
分类号
H01L31/18(2006.01)
主分类号
H01L31/18(2006.01)
代理机构
代理人
蔡坤财;李世章
主权项
地址
美国
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