| 摘要 |
本发明系于藉由溶液流延制膜法之光学薄膜的制造方法中，在金属支持体表面上藉由大气压电浆处理或准分子UV处理以形成表面处理膜后，在金属支持体表面上使胶浆予以流延，可解决金属支持体之剥离性不佳的范围。藉此可减少薄膜生产条件的限制，提高生产性。另外，藉由提高薄膜之剥离性，可减少剥离位置在宽度方向之变动，且可大幅地降低阻滞值之偏差情形，故可制造具有透明性、平面性优异的光学特性之光学薄膜。藉此，可提供对应于偏光板用保护膜等之薄膜化、宽幅化及高品质化的要求之光学薄膜的制造方法、光学薄膜、偏光板及显示装置。 |
