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发明名称
使半导体工件在多种化学物质中振荡曝置的系统和方法
摘要
本发明揭示一种使一半导体工件在多种化学物质中振荡曝置的系统和方法。依据一具体实施例之一方法包括依序曝置一半导体工作表面之一部分于一具有一第一化学成分之第一化学物质中及一具有一不同于该第一化学成分之第二化学成分的第二化学物质中。在冲洗该工件表面之部分之前,该部分系再次依序曝置于该等第一及第二化学物质中。从该部分移除该等第一及第二化学物质,并在至少两次依序曝置该部分于该等第一及第二化学物质之每一化学物质中及移除该等第一及第二化学物质之后,冲洗并乾燥该部分。
申请公布号
TW200908110
申请公布日期
2009.02.16
申请号
TW097120778
申请日期
2008.06.04
申请人
美光科技公司
发明人
麦克 安德斯
分类号
H01L21/30(2006.01);H01L21/02(2006.01)
主分类号
H01L21/30(2006.01)
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
美国
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