包含阿司巴丹之化学机械研磨组成物及其制造与使用方法

摘要

本发明提供了一种水性的CMP泥浆组成物，其包含研磨粒子和阿司巴丹。以本发明之CMP泥浆组成物藉由化学机械平坦化，其优先选择自物品的表面研磨二氧化矽而非氮化矽。此外，当有更多的阿司巴丹加入泥浆时，二氧化矽的速率不是没有大幅受到影响就是增加，并且氮化矽的速率仍维持的相当低。除了提供二氧化矽对氮化矽研磨的选择性之外，本发明提供了利用阿司巴丹做为研磨二氧化矽之研磨加速剂的一种方法。