金属错合物组合物及制造含金属膜之方法

摘要

本发明提供适用作沈积剂用以于基板及基板之特征上制造包括薄膜结构及硬涂层之结构的物质之组合物。举例而言，在一实施例中，本发明提供具有一或多个二硼烷胺(diboranamide)或二硼烷膦(diboranaphosphide)配位体之金属错合物，其适用作用于制造薄膜结构及涂层之化学气相沈积(CVD)及/或原子层沈积(ALD)前驱体。提供具有足够高之挥发性以便提供致密、平滑及均质薄膜及涂层的金属错合物CVD前驱体。