曝光设备，控制曝光设备的方法，及装置制造方法

摘要

一种曝光设备包括：一光学系统支座，支撑一投影光学系统；一载台平板；一第1载台及第2载台；一第1干涉仪，构成测量于一第1区域中载台之位置；一第2干涉仪，构成测量于一第2区域中载台之位置；一第3干涉仪，插入第1干涉仪与第2干涉仪之间；一间隙感测器，构成测量光学系统支座与载台平板间之一间隙；以及一控制单元，构成于调换时，使用第3干涉仪所获得的测量结果，将第1干涉仪及第2干涉仪之一所获得的测量结果转换至第1干涉仪及第2干涉仪之另一个，并根据间隙感测器所获得的测量结果，校正所转换测量结果。