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发明名称
多晶薄膜双极电晶体及其制法
摘要
本发明描述一种半导体装置及形成该装置之方法,其中该装置包含具有基极区、射极区及集极区之双极电晶体,其中该基极区包含由使与矽化物、锗化物或矽化物锗化物接触之矽、锗或矽锗结晶来形成之多晶半导体材料。射极区及集极区亦可包括由使与形成矽化物、锗化物或矽化物锗化物之金属接触之矽、锗或矽锗结晶来形成之多晶半导体材料。多晶半导体材料较佳为矽化多晶矽,其与C49相矽化钛接触而形成。
申请公布号
TW200908296
申请公布日期
2009.02.16
申请号
TW097122362
申请日期
2008.06.13
申请人
桑迪士克3D公司
发明人
克里斯多夫J 彼得;S 布莱德 贺纳
分类号
H01L27/10(2006.01);H01L21/822(2006.01)
主分类号
H01L27/10(2006.01)
代理机构
代理人
黄章典;楼颖智
主权项
地址
美国
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