用于冶金级矽的直接氯化作用之方法及装置

摘要

本发明系关于一种用于冶金级矽之直接氯化作用以制造四氯化矽之方法及装置，其包含具有用于供应矽及注入氯之构件及用于移除反应产物－四氯化矽和任何剩余物质之构件的反应器。该氯化作用系在隐床反应器中进行，其中该反应器系属于直立管状类型，该矽系由该反应器顶部连续喂入且氯系以受控方式与矽同向流或逆向流地注入，藉以同时去除反应生成热以将该反应温度较佳地保持在300-700℃之间。本发明提供一种用于制造目标产物之便宜、有效且容易控制之方法及装置。