光敏化合物以及包括此光敏化合物的光阻组合物

摘要

揭示一种用以形成超薄电路图案之光敏化合物以及包含此光敏化合物的组合物。此光敏化合物具有以下式1结构#P 097120981P01.bmp在式1中，x是介于1~5间的整数，y是介于2~6间的整数，且R是C#sB!2#eB!~C#sB!20#eB!的碳氢基。本发明之光阻组合物包含1~85%(重量%)之式1的光敏化合物；1~55%(重量%)之一可与式1化合物中的羟基(-OH)反应的化合物，以便结合此式1之光敏化合物；1~15%(重量%)之PAG；和12~97%(重量%)之一有机溶剂。